石英
石英インゴット
高純度で信頼性の高いインゴットを提供します
モメンティブ・テクノロジーズは高純度の透明溶融石英インゴットと不透明石英インゴットを製造しています。 これらは高度なウェハー処理に対応する優れたパフォーマンスを実現します。内在する微量元素はppm, ppbレベルであり、半導体メーカーが求める最先端の性能と歩留まりを実現します。 当社の石英インゴットは低水酸基（-OH）レベルになるよう特殊なプロセスにて製造をしており、高温用途に最適なソリューションです。
製品の特長
- 超高純度を活用し、半導体前工程のウェハー処理における超クリーン環境を実現
- 材料の均質性により、統一性があり安定した性能を供給可能
- 低水酸基により、高温環境下での高粘度化を実現
- 「完全コピー」プロセスにより、完全に同一の成果物と安定した歩留まりを実現
- 豊富なサイズ展開 で、様々な形状の加工に柔軟に対応可能
- グローバルな認定加工業者ネットワークが、モメンティブ・テクノロジーズの石英インゴットを精密な完成品に加工
主な用途
- エッチング、拡散、蒸着、タンクなどの半導体ウェハー処理装置
- LEDウェハー処理
- 太陽電池用ウェハー処理
- 光学
モメンティブ・テクノロジーズの石英インゴットは、様々な用途に対応できるよう、数種類の高純度グレードで製造されています。 中空シリンダーから大型ソリッドインゴットまで、様々な形状に対応し、部品製造工程の柔軟性を最大限高めています。 インゴット材料は、全世界に広がるネットワークを通じて入手しています。
製品グレード
| グレード | 概要 | アプリケーション |
|---|---|---|
|
124™ |
標準的な高純度石英 |
エッチング、拡散、蒸着、タンクなどの半導体ウェハー処理装置 |
|
144™ |
低Al＋低アルカリ石英 |
プレミアム半導体ウェハー処理 |
|
012™/012AI |
合成超高純度石英、低水酸基 |
先端ノード半導体ウェハー処理と光学 |
|
i21™ |
プレミアムなビジュアル品質。様々な純度での展開 |
半導体ウェハー処理、光学 |
最大微量不純物 (単位: WPPM)
| 製品 | Al | Ca | Cu | Fe | Li | Mg | Mn | K | Na | Ti | Zr |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
124 |
19 |
2.0 |
0.10 |
0.8 |
2.0 |
1.0 |
0.24 |
3.0 |
2.5 |
2.0 |
3.5 |
|
144 |
10 |
2.0 |
0.009 |
0.8 |
0.4 |
1.0 |
0.24 |
0.4 |
0.5 |
2.0 |
3.5 |
|
012 |
0.5 |
0.15 |
0.05 |
0.2 |
0.15 |
0.1 |
0.05 |
0.2 |
0.2 |
0.16 |
0.3 |
|
012AI |
9~14* |
0.15 |
0.05 |
0.2 |
0.15 |
0.1 |
0.05 |
0.2 |
0.2 |
0.16 |
0.3 |
|
i21-24 |
19 |
2.0 |
0.10 |
0.8 |
2.0 |
1.0 |
0.24 |
3.0 |
2.5 |
2.0 |
3.5 |
|
i21-44 |
10 |
2.0 |
0.009 |
0.8 |
0.4 |
1.0 |
0.24 |
0.4 |
0.5 |
2.0 |
3.5 |
最小値：9ppm、最大値：14ppm
このチャートに記載の情報は、情報提供のみを目的としています。 この情報は、製品や材料を推奨するものではなく、特定の使用ケースやニーズに情報を適用する際には、お客様ご自身の専門知識と専門的な判断を用いていただくことを明示的な条件として、お客様に提供されています これは一般的な情報のみであり、その有効性は、モメンティブ・テクノロジーズが把握していない個々の要因によって影響を受ける可能性があります。 この情報を使用する方は、特定の状況に関して適切な解釈と適用を行う責任があります。
